在光伏产业，太阳能的硅片的生产过程，人们需要将硅片进行清洗，然后才能生产出合格产品。由于太阳能硅片的表面污染物成份比较复杂，一般主要包括油脂、松香、环氧树脂、聚乙二醇等有机物，还有的就是尘埃及其它颗粒污染和金属离子等，它们通常用化学清洗的方式以及物理吸附的方法清洗存在于硅片表面或硅片的氧化膜中。这些杂质严重影响着电池片的性能及成品率。硅片清洗的要求是既能去除各类杂质，又不破坏硅片。
对于硅片清洗技术，其发展历程大致可分为如下四个阶段：
第一阶段，建立了最初的化学和机械抛光，但是由于人们使用和处理不当，往往会在金属表面上重新沉淀其它杂质以及带来金属杂质的再次污染；
第二阶段，1961-1971年期间，使用最初的RCA- 1清洗剂，该清洗技术的发展是清洗技术的历程碑；
第三阶段，1972-1989年期间，这一阶段的工作主要基于对 RCA清洗的化学原理上，对于适用情况以及影响因素等进行深入研究和分析，对 RCA清洗技术进行不断的改良；
第四阶段，1990年--至今，侧重于对溶液清洗机理和动力学的研究以及新型清洗技术的开发研究。
本实验目的在于研制一种碱性的、不含有机溶剂、无刺激性气味、成本低的水基专用清洗剂，要求其清洗效果与太阳能硅片的传统清洗方法相当或者更优。我们的清洗剂配方，以非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂为主要组分，清洗方法具有操作方便、成本低、无毒、对皮肤无腐蚀、对人体无危害、对环境无污染等优点。
1、配方及主要原材料：脂肪醇聚氧乙烯醚；6501 壬基酚聚氧乙烯醚；十二烷基苯磺酸钠 LAS；三乙醇胺油酸皂；三聚磷酸钠；NaOH，以上均为工业品。乙二胺四乙酸二钠（C.P）。
2、配方评价：
1）该清洗剂配方呈碱性，洗净率在99%以上，对清洗对象表面不会残留不溶物，不会对清洗物造成新的污染，不会影响其产品的质量，清洗后的硅片表面干净。
2）该清洗剂可用于常温下的超声清洗，清洗条件温和，对温度、压力、机械能等没有特殊要求，企业能耗更低。
3）该清洗剂清洗后的返片率非常低，仅为传统清洗工艺的百分之十，工艺简单，操作方便，满足环保要求。
