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光学玻璃元件清洗剂性能的检测

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光学玻璃元件清洗剂性能的检测

  • 分类:技术分享
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  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-24 15:07
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【概要描述】  一、.光学元件清洗剂的应该具备的性能   1 首先应有很好的去油去垢性能,满足光学元件表面对高清洁度的技术要求;   2对设备和玻璃表面没有腐蚀,不会对元件表面构成新的污染;

光学玻璃元件清洗剂性能的检测

【概要描述】  一、.光学元件清洗剂的应该具备的性能
  1 首先应有很好的去油去垢性能,满足光学元件表面对高清洁度的技术要求;
  2对设备和玻璃表面没有腐蚀,不会对元件表面构成新的污染;

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  一、.光学元件清洗剂的应该具备的性能
  首先应有很好的去油去垢性能,满足光学元件表面对高清洁度的技术要求;
  2对设备和玻璃表面没有腐蚀,不会对元件表面构成新的污染;
  3清洗剂的清洗能力、在清洗温度下的化学稳定性、浊点等在使用过程中应长期保持稳定,其持效性在因素变化的宽范围内能保持稳定。
  4、对环境无污染,对操作者无毒害。
  三.实验部分
  1原料
  主要以去污能力好,对玻璃不腐蚀,生物降解性能好的非离子和阴离子表面活性剂复配,并加入非磷酸盐助剂所形成。按照不同清洗对象试验调整清洗剂的配方。
  2、超声波清洗剂去污能力实验
  主要对被清洗物(光学元件)进行人工污染,在超声波清洗工艺条件下,进行模拟试验.确定其相对去污效果。
  方法采用经手工清擦检验合格的光学棱镜(K9玻璃),分别在镜面上制造人工污染(手辅印、唾液圈,水渍印)。放置24小时以上,采用台式CFS80型超声波清洗机(功率为80W)用收集到的不同产地不同牌子的清洗剂进行同等条件下的去污试验,然后检验比较去污能力的优劣。
  大量试验数据统计表明.在相同模拟试验条件下.不同牌号清洗剂综台去污力有着显著区别。选用什么类型洗涤剂作为光学元件超声波清洗剂无疑是十分重要的。然而一般情况下,对指印都具有良好的去污力。而对水渍印唾液印,由于化学作用在光学元件表面产生的腐蚀
  性“斑点”,大多数清洗剂去污效果均不佳。在模拟试验的基础上.将综合去污力在80%以上的几种类型洗涤剂解剖其配方。由我公司试制出几种光学元件超声波清洗剂。
  3、、清洗剂对光学元件的腐蚀性试验
  光学元件所用的玻璃材料.大量被采用的是冕牌玻璃(BaK3)或火石玻璃(ZF5)。由于碱金属和碱土金属氧化物(R表示)进入玻璃硅氧网络结构,使硅氧四面体表组成的网络断裂。
  然而RO连接键的强度较Si-O共价键弱得多,因此其化学稳定性远比纯石英玻璃差。当使用超声波清洗方式时,由于清洗剂中某些组分在水中离解,产生正负离子或酸碱度,玻璃表面碱金属或碱土金属离子可能被选择性的溶解。玻璃原始结构被破坏从而元件表面出现不规则的“毛路”或“斑点”。因此.清洗剂对光学玻璃材料的腐蚀程度是衡量清洗剂质量的重要指标之。
  3 1在静态条件下,清洗液对玻璃的相对腐蚀性试验方法:玻璃用钢钵研碎,经2040目筛分.颗粒度为10.4mm试样,用无水乙醇浸泡,冲洗,弃出悬浮物,烘干待用。
  准确称取上述处理过的玻璃试样2.0000g.置于4.0ml烧杯中.加1%清洗液200mL,盖上表面皿,在50℃水浴中保温1小时,用已恒定的4#玻砂坩埚过滤,蒸馏水洗至中性.于100105℃烘箱中烘干.称至恒定。测定玻璃被腐蚀失重百分率。
  试验证明:
  (1)不同清洗剂在相同条件下,对同种牌号玻璃有不同腐蚀(浸蚀)失重.
  (2)同种清洗剂在相同条件下,对不同牌号玻璃浸蚀量也不同。
  3 2清洗液在超声波工作条件下,对玻璃的腐蚀性试验
  3 2 1工艺条件在美国CRST公司制造的超声清洗设备上.输出频率:40KHz,输出功率:500w,超声时间:13mm,温度:4550℃,清洗液浓度:1%一0 .75%。
  3 2 2评价方法.将上述工艺条件下清洗的光学元件在黑背景灯箱中.1.0w白炽灯照明.用6倍放大镜目测被清洗元件表面是否产生超声“毛路”,然后哈气检验有无斑点”。
  试验证明:在超声清洗相同工艺条件下,不同类别清洗剂的匹配或同类清洗液对不同牌号玻璃腐蚀性不一样,只有通过试验来鉴别。
  3 3超声清洗条件下.清洗剂的工艺特性试验
  试验证明,清洗剂的“浊点”温度和化学稳定性,也是超声清洗的重要工艺特性。有的清洗剂在静态条件下,1%一0.5%的溶液是透明的。但在超声条件下.特别是温度升至最佳超声定化点(4550)时,清洗液会变混浊。这可解释为清洗剂中的表面活性剂分子中的酯基、醚基等与水分子之间的氢键,因超声条件下,温度升高而断裂,产生脱水现象,使活性剂溶解度降低所造成的。
  清洗液出现混浊(浊点),不仅去污力大大降低,而且会在元件表面形成新的污垢(小白点)。试验证明超声条件下,清洗剂出现浑浊(浊点)时的温度,较在静态下的浊点温度提高58℃,且能破坏其化学稳定性。超声清洗剂的浊点一般要高于超声清洗时的温度(4050}810℃为宜。
  四。讨论与回顾
  1、以上着重介绍了光学元件超声波清洗剂及相关的~些问题,清洗剂的配方性能是主要的。然而,超声清洗工艺参数的调整.清洗剂浓度的改变.不同牌号玻璃元件,都能导致清洗效果发生变化。要选定种适用于不同牌号光学玻璃元件.在不同工艺条件的特效清洗剂,取得好的清洗效果是困难的。
  2、随着光学事业的发展;士大光学冷加工过程中的传统清洗方法也适应生产发展需要。改变落后的清洗方法是当务之急。经过十余年的努力,云南光电辅料有限公司已开发出了光学元件清洗剂系列产品,基本满足了冷加工过程中的清洗要求。从单件手工洗变为成盘机器洗;
  从有机溶剂清洗改变为水溶性清洗。提高了生产效率,保证了安全。
  3、新技术、新工艺改变了落后的生产方式,提高了生产效率。

 

 

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