应用于光学玻璃元件的清洗剂．传统的方法常用有机溶剂，如乙醇、乙醚、异丙醇三氯乙烯、CFC-11 3等。不但价格昂贵．而且有毒易燃对操作人员和环境不安全，会造成臭氧层的破坏，并且不适应大批量光学元件的清洗。采用以表面活性剂和助剂为主的水溶性清洗剂．代替有机溶剂用于光学元件不同的冷加工生产过程和光学仪器的装配前光学元件的清洗，不但可降低生产成本．适应大批量机洗．而且对环境保护和人身安全都有重大意义。
光学元件的生产，是一个比较复杂的冷加工过程。需要的辅料品种多(沥青、火漆、金刚砂、氧化铯、热溶胶、切削液、磨边油、有机溶刑、保护涂料等)．要经过若干不同的加工工序(其中包括清洗)，方能完成一件光学元件的生产工作。
一．光学元件表面污垢的
来源及分类
1 污垢的来源分析
(1)元件在冷加工过程中，经过下盘清洗后，尚存在的磨料(CeO2)冷却液(自来水等)、辅料（蜡，沥青、虫胶等保护漆）、有机溶剂（汽油)等的残渍；
(2)元件在工序流程中，操作者接触可能目f起的手指印唾液印、汗渍印；
(3)元件在储存过程中，空气中的尘埃、二氧化碳、温度等引起在元件表面的“腐蚀”。
上述污垢又往往不是单独存在．而是相互渗透，随外界环境(湿度、温度)影响．还会氧化分解或因微生物作用而腐败，形成更为复杂的化台物粘附在元件表面，甚至腐蚀元件表面．形成难以清除的色斑。
2，污垢的分类
(1)有机污垢
如蜡、沥青、虫胶汗渍、手指印、溶剂印等是由于范德华力(分子引力)吸附在元件表面。它的特征是不溶于水，但溶于某些醇、醚：烃类有机溶剂．也可被清洗剂的水溶液乳化并分散。
(2)固体污垢
如尘埃、烟灰、磨料、残渍等。其污渍颗粒很小，微粒一般带负电荷，但仍主要靠范德华力吸附在元件表面，或与油水混合粘附在元件表面，它的特征是不溶于水和有机溶剂，但可被清洗剂的活性物分子吸附，使微粒分散，胶溶而悬浮在水中。
(3)水溶性污垢
来自人体的分泌物如唾液、水印等。它的特征是一般溶于水，但能与元件表面起化学作用．靠化学链与元件表面结合，形成腐蚀性”色斑”，这就需要反应试剂通过化学方法来去除。
